等离子蚀刻机是专门设计用来蚀刻的，所用行业包括太阳能行业单晶硅、多晶硅、非晶硅带太阳能电池片（cell）和硅片（wafer）的划片（切割切片）：电子行业单晶晶硅硅片（wafer）的分离切割。
等离子刻蚀机应用在太阳能电池硅片边缘隔离及背部表面氮化物或PSG（磷硅酸盐玻璃）去除，微波等离子系统具有RF射频刻蚀系统不可比拟的高刻蚀速率，另一方面直接微波等离子体技术使电池片温度保持在很低的水平从而避免产生热应力。
提供扩散后的硅片，对其进行一次等离子刻蚀，去除硅片四周的磷硅玻璃，随后，将等离子刻蚀后的硅片按照常规流程进行湿法刻蚀。本发明提供的太阳能电池边缘刻蚀方法，通过增加一次传统的等离子刻蚀，去除扩散后的硅片周边的磷硅玻璃，而使中间大部分的面积上保留磷硅玻璃的覆盖，从而在后续的湿法刻蚀过程中保护扩散层不受气相腐蚀，提高方块电阻稳定性；
同时利用硅片周边的裸露硅本体的疏水性质防止刻蚀液浸润硅片的上表面。两次刻蚀后，电池片的并联电阻和填充因子明显提高，漏电流显著降低。从而实现低成本，高稳定性，高并联电阻的湿法刻蚀。
